Der japanische Elektronikkonzern Toshiba will einem Zeitungsbericht zufolge bis Ende 2009 die Massenfertigung von Flash-Speicherchips mit noch feineren Strukturen aufnehmen.

Mit der Produktion von 30-Nanometer-Halbleitern könnte der weltweit zweitgrößte Hersteller der gefragten Flash-Speicher seine derzeitigen Kosten halbieren und sich einen Vorteil gegenüber dem koreanischen Rivalen und Weltmarktführer Samsung verschaffen, berichtete die japanische Wirtschaftszeitung "Nikkei" in ihrer Montag-Ausgabe.

Toshiba will dem Bericht zufolge mit der Produktion von Chips mit Strukturgrößen von 43 Nanometern im März in seinem zentraljapanischen Werk Yokkaichi beginnen. Dort solle auch die Fertigungslinie für die 30-Nanometer-Chips entstehen. Toshiba war zunächst nicht für eine Stellungnahme zu erreichen.