MIT-Forschende fanden einen Weg, um Transistoren wachsen zu lassen - möglich macht es eine Kristallimpfung mit Maske

Alle zwei Jahre verdoppelt sich die Zahl der Transistoren auf modernen Computerchips, gemessen an ihrer Fläche. Diese hier vereinfacht formulierte Beobachtung von Gordon Moore, dem Mitgründer des IT-Konzerns Intel, wurde in der Branche unter dem Namen "Moore's Law" zu einer Art Leitlinie.

Doch das nie als solches formulierte Gesetz hält schon länger nicht mehr mit der Praxis mit. Und es könnte alsbald an seine physikalischen Grenzen stoßen. Die Entwicklung neuer Fertigungsprozesse wird immer schwieriger. Und unterhalb einer gewissen Strukturgröße - angenommen wird ein Bereich von circa zwei Nanometern - büßt Silizium jene Eigenschaften ein, die es als Halbleiter zur Herstellung von Transistoren mitbringt. Dann muss sich die Branche nach Alternativen umsehen, geforscht wird in diese Richtung schon seit längerem.

Eine mögliche Alternative zeigen nun Wissenschafterinnen und Wissenschafter des renommierten Massachussetts Institute of Technology (MIT) auf. Sie haben eine Methode erarbeitet, um 2D-Kristalle zu züchten, die Silizium ausstechen können.